PVD离子镀膜与真空蒸发镀膜比较存在的优点

离子镀膜（PVD 镀膜）技术其具体的原理主要是指，在真空的环境下，运用大电流、低电压的电弧放电技术，通过合理运用气体放电，即可促使靶材迅速蒸发，蒸发气体与物质均能够被迅速电离，再通过对电场的加速，从而促使各种反应产物和蒸发物质能够大量聚集在工件之上。PVD 离子镀膜因其所具备的各项特点，其与真空蒸发镀膜比较，存在以下优点：
（1）离子具有较好的绕射性能，可对各种复杂的镀形状工件进行处理；
（2）工件与膜层表面具有较强的结合力，故具有更高的耐磨性和持久性；
（3）其所能够镀膜的种类非常繁多；
（4）膜层具有较快的沉积速率，并且有着较高的生产效率；
（5）具有较为稳定的膜层性能，其安全性也非常高。　　
PVD 技术更多的适用于成型、冲压、拉伸等模具，车刀、钻头等刀具以及精密零配件等。在对模具进行涂层技术的处理之后，可促使抗磨力、硬度得到有效提升，同时还可促使摩擦系数降低，从而促使工件的使用寿命得以延长，通常情况下，与未处理过的工件比较，其寿命能够增加 3-10 倍。截至目前为止，较常见的涂层主要包括：TiCN、CiN等，各种涂层处理技术，其所具备的用途和特性有明显差异。